Deposición física de vapor
La deposición física de vapor (o PVD para la deposición física de vapor en inglés ) es un conjunto de métodos de deposición al vacío de películas delgadas :
- Evaporación directa:
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bombardeo iónico : las partículas metálicas se separan de su sustrato mediante bombardeo iónico.
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Los átomos e iones con láser pulsado de ablación ( deposición con láser pulsado o ablación con láser pulsado ) se vaporizan mediante la acción de una intensa radiación láser.
- Epitaxia de haz molecular
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Deposición por arco eléctrico ( Arc-PVD ): los átomos e iones se vaporizan bajo la acción de una fuerte corriente, provocada por una descarga eléctrica entre dos electrodos con una fuerte diferencia de potencial, que desprende las partículas metálicas y las hace pasar por fase gaseosa.
Otro método de deposición al vacío de películas delgadas es la deposición química de vapor (o CVD para la deposición química de vapor en inglés ).
El proyecto europeo Hardecoat utiliza esta técnica PVD para hacer películas delgadas.